[实用新型]相变存储器以及电子设备有效
申请号: | 202020921710.9 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN212542479U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | P·波伊文;D·贝努瓦;R·贝特隆 | 申请(专利权)人: | 意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及一种相变存储器设备以及电子设备。该相变存储器设备包括:衬底;在衬底上的晶体管;在晶体管上的第一绝缘层;导电过孔,延伸穿过第一绝缘层;在第一绝缘层上的第二绝缘层;在导电过孔上的电阻元件,该电阻元件延伸穿过第二绝缘层;在电阻元件上的相变材料层;在相变材料层上的导电层;在导电层上的第三绝缘层;在第三绝缘层中的开口,该开口直接覆盖相变材料层;以及在该开口中的第四绝缘层。 | ||
搜索关键词: | 相变 存储器 以及 电子设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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