[实用新型]相变存储器以及电子设备有效

专利信息
申请号: 202020921710.9 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN212542479U 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: P·波伊文;D·贝努瓦;R·贝特隆 申请(专利权)人: 意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 董莘
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及一种相变存储器设备以及电子设备。该相变存储器设备包括:衬底;在衬底上的晶体管;在晶体管上的第一绝缘层;导电过孔,延伸穿过第一绝缘层;在第一绝缘层上的第二绝缘层;在导电过孔上的电阻元件,该电阻元件延伸穿过第二绝缘层;在电阻元件上的相变材料层;在相变材料层上的导电层;在导电层上的第三绝缘层;在第三绝缘层中的开口,该开口直接覆盖相变材料层;以及在该开口中的第四绝缘层。
搜索关键词: 相变 存储器 以及 电子设备
【主权项】:
暂无信息
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