[实用新型]半导体制程用的降温结构及其降温系统有效

专利信息
申请号: 202020742140.7 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN212013385U 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 张宝曜;张宝杰;江明翰 申请(专利权)人: 博斯科技股份有限公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20;H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;安利霞
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 实用新型提供了一种半导体制程用的降温结构及其降温系统,包括:降温模块、温度控制模块、电源供应模块以及供水模块,降温模块包括载台,载台介于6寸至16寸之间,载台的工作温度介于0度至50度之间,载台的一侧面放置待测物,载台的另一侧面设置制冷芯片,制冷芯片的一侧面设置水冷排结构,温度控制模块调节制冷芯片的工作温度,电源供应模块提供电能给降温模块及温度控制模块,供水模块连接降温模块,供水模块包含输液管,输液管连接水冷排结构,使供水模块与水冷排结构相连通,并且形成循环回路,供水模块提供工作液体给水冷排结构,工作液体的工作温度介于18度至25度之间。
搜索关键词: 半导体 制程用 降温 结构 及其 系统
【主权项】:
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