[实用新型]具有温度补偿的管式PECVD装置有效
申请号: | 202020545590.7 | 申请日: | 2020-04-14 |
公开(公告)号: | CN211848136U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 陈庆敏;吴晓松;李丙科;蔡宗捷;刘永法 | 申请(专利权)人: | 无锡松煜科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52 |
代理公司: | 江苏漫修律师事务所 32291 | 代理人: | 熊启奎;周晓东 |
地址: | 214028 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种具有温度补偿的管式PECVD装置,包括工作台室、主机室及气源柜,工作台室内部设有一套机械驱动机构,机械驱动机构上安装至少一个推拉舟,推拉舟上放置有两个以上对接的石墨舟,主机室内至少具有一个工艺腔室,工艺腔室的内壁为石英管,石英管的外周沿轴向套设石英套管,石英套管外部为加热炉体,石墨舟进入工艺腔室后,加热炉体对应石墨舟对接的部位设置有加热电阻丝和对接部温度控制系统。本实用新型使工艺腔室内的温度趋于相同,解决硅片沉积薄膜质量受温度变化影响等问题。 | ||
搜索关键词: | 具有 温度 补偿 pecvd 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的