[发明专利]金属有机化合物化学气相沉淀设备腔盖及其隔离挡板有效
申请号: | 202011622896.9 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112877673B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 陈张笑雄;葛永辉;梅劲;王群;刘春杨 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本公开提供了一种金属有机化合物化学气相沉淀设备腔盖及其隔离挡板,属于金属有机化合物化学气相沉淀设备领域。隔离挡板包括:环形板体,所述环形板体的内部设有冷却液通道,所述环形板体的表面设有进液口和出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述冷却液通道连通,所述进液口、所述出液口和所述环形板体的内孔的一个端面位于同一平面,所述进液口和所述出液口的连线与所述环形板体的内环的直径重合,所述环形板体的内环外壁上设置有若干悬臂,所述若干悬臂环绕所述环形板体的中心分布。本公开能够改善石墨盘高速转动状态下腔体内壁附近流场。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机化合物 化学 沉淀 设备 及其 隔离 挡板 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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