[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202011622812.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686113A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 周靖宇;马健;荆建芬;倪宇飞;宋凯;汪国豪;周文婷;杨征;王拓;许芃亮 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供一种用于含碳材料的抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液，包含磨料、氧化剂和无机酸及其盐类，该抛光液在维持较高的含碳材料去除速率的同时，有效减少了抛光垫表面的抛光副产物残留，显著提升了抛光垫表面清洁程度，延长了抛光垫的使用寿命，降低了抛光后晶圆表面的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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