[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202011611419.2 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112736092A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 龚吉祥 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种阵列基板,包括衬底、设置于衬底上的低温多晶硅薄膜晶体管和氧化物薄膜晶体管,低温多晶硅薄膜晶体管包括第一有源层,第一有源层上依次层叠覆盖有栅极绝缘层和层间绝缘层,栅极绝缘层包括氧硅化物层,氧化物薄膜晶体管包括第二有源层,层间绝缘层上设置有凹槽,凹槽与低温多晶硅薄膜晶体管不具有交叠面,凹槽贯穿层间绝缘层,且凹槽的深度延伸至氧硅化物层的表面,第二有源层位于凹槽内的氧硅化物层表面。将LTPO显示面板中的氧化物薄膜晶体管的第二有源层下方的含有高氢含量的第一层间绝缘层去除,使得第二有源层与下方的低氢含量的第一栅极绝缘层接触,从而降低第二有源层周围的氢含量,提高氧化物薄膜晶体管的稳定性。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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