[发明专利]背栅晶体管及其制备方法在审
| 申请号： | 202011606191.8 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN112701156A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 卢红亮;陈金鑫 | 申请（专利权）人： | 光华临港工程应用技术研发（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/423 | 分类号： | H01L29/423;H01L29/45;H01L29/772;H01L21/335 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种背栅晶体管，包括：一周期性孔洞基底，所述周期性孔洞基底由一硅衬底以及所述硅衬底表面的介电层组成，所述介电层表面具有周期性孔洞阵列；一源极，所述源极位于所述周期性孔洞基底上；一漏极，所述漏极位于所述周期性孔洞基底上，且与所述源极分立于一孔洞两侧；一栅极，所述栅极为悬空的β‑Ga |
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| 搜索关键词： | 晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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