[发明专利]晶片叠对标记、叠对测量系统及相关方法在审
申请号: | 202011508435.9 | 申请日: | 2020-12-18 |
公开(公告)号: | CN113161277A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | D·S·弗罗斯特;R·T·豪斯利;D·S·普拉特;T·D·伽韦 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L23/544 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请案涉及晶片叠对标记及叠对测量系统及相关方法。一种用于确定叠对测量的方法包含使晶片定向以将叠对标记的图案的线的部分与其中照明源在所述晶片处发射光的方向对准及对准所述图案的所述线的其它部分以在垂直于其中所述照明源在所述晶片处发射光的所述方向的方向上延伸。所述方法包含经由成像仪传感器捕获所述晶片的至少一个图像。所述方法也包含确定所述叠对标记的区域的对比度且确定所述叠对标记的位置。叠对标记包含定义列阵列的图案。每一列包含彼此平行定向且在列的第一区域内在第一方向上延伸且在所述列的第二区域内在第二不同方向上延伸的一组连续线。 | ||
搜索关键词: | 晶片 标记 测量 系统 相关 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造