[发明专利]一种甚多微孔坩埚以及高通量制备氟化物单晶光纤的方法在审
申请号: | 202011482671.8 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN114635188A | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 张中晗;苏良碧;钱小波;唐飞;张振;姜斌斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C30B29/12 | 分类号: | C30B29/12;C30B11/00;G02B6/02 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种甚多微孔坩埚以及高通量制备氟化物单晶光纤的方法,所述甚多微孔坩埚包括:坩埚主体、安装于所述坩埚主体的上方的坩埚上盖和安装于所述坩埚主体的下方的坩埚底盖;所述坩埚主体包括多个独立的晶体的生长空间;每个独立的生长空间内包括:上装料仓和下装料仓,以及用于连通所述上装料仓的底部和下装料仓的顶部且在竖直方向上延伸的单晶光纤生长微孔和空气导出孔;所述单晶光纤生长微孔的直径为0.5~2 mm,所述空气导出孔的直径为4~6 mm。 | ||
搜索关键词: | 一种 甚多 微孔 坩埚 以及 通量 制备 氟化物 光纤 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011482671.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。