[发明专利]沉积装置及方法有效
| 申请号： | 202011479958.5 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112695299B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 朱燕华;罗兴安 | 申请（专利权）人： | 长江先进存储产业创新中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/40;C23C16/24 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 高洁;张颖玲 |
| 地址： | 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种沉积装置和方法，其中，所述装置包括：第一气体产生子装置、第二气体产生子装置、第一管路、第二管路、第三管路以及反应腔室；其中，所述第一气体产生子装置，用于产生第一气体；所述第二气体产生子装置，至少用于产生第二气体；在进行沉积工艺处理的过程中，所述第一气体通过所述第一管路以及第三管路被输送至所述反应腔室中，以对所述反应腔室中的半导体器件进行沉积工艺处理；在所述沉积工艺处理的过程中，所述反应腔室中的物质不能通过所述第三管路进入所述第二管路和/或所述第二气体产生子装置中；在所述沉积工艺处理完成后，所述第二气体通过所述第二管路以及第三管路被输送至所述反应腔室中，以清洁所述反应腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
