[发明专利]一种MOS栅控晶闸管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202011463011.5 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN112563325B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 陈万军;张舒逸;刘超;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/749 分类号: H01L29/749;H01L29/06;H01L21/332
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及功率半导体技术领域,具体的说是适用于脉冲功率领域的一种MOS栅控晶闸管及其制造方法。本发明主要通过改进常规MOS栅控晶闸管的器件结构,使之具有常关特性,同时与避免了其应用于脉冲功率领域时因栅介质击穿导致的脉冲系统发生失效的问题,即在简化驱动电路的同时提升脉冲系统可靠性。
搜索关键词: 一种 mos 晶闸管 及其 制造 方法
【主权项】:
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