[发明专利]光可分解化合物、光致抗蚀剂组合物和制造集成电路装置的方法在审
| 申请号： | 202011392215.4 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN113135873A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 宋炫知;洪锡九;金秀珉;金艺灿;金珠英;金珍珠;金贤友;朴柱铉;李松世 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | C07D277/24 | 分类号： | C07D277/24;C07D263/32;C07D233/64;C07D213/68;C07C321/30;C07C319/20;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 李娜;王占杰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供了光可分解化合物、光致抗蚀剂组合物和制造IC装置的方法，所述化合物在曝光时产生酸并且在未曝光状态下用作中和酸的猝灭碱，并且由式1表示：[式1] |
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| 搜索关键词： | 可分解 化合物 光致抗蚀剂 组合 制造 集成电路 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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