[发明专利]一种用于制备二维材料的原子层沉积系统在审

专利信息
申请号: 202011391773.9 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112323044A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 许若言;左雪芹;李珊珊 申请(专利权)人: 江苏迈纳德微纳技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/56
代理公司: 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 代理人: 张迎召
地址: 214000 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及制备二维材料的原子层沉积系统技术领域,提供了一种用于制备二维材料的原子层沉积系统,包括工作台,其特征在于:所述工作台上设置有反应腔;送样系统;前驱体源输送系统,用于输送前驱体气源;反应源输送系统,用于输送反应性气源;真空系统,为气体流通提供动力支持。本发明克服了现有技术的不足,设计合理,结构紧凑,解决了现有的ALD装置沉积系统无法满足高温沉积,同时步骤复杂的问题,本发明通过简单的结构组合,操作步骤少,同时结构布局更加合理紧凑,方便在高温下发生沉积,具有很强的实用性。
搜索关键词: 一种 用于 制备 二维 材料 原子 沉积 系统
【主权项】:
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