[发明专利]一种用于制备二维材料的原子层沉积系统在审
申请号: | 202011391773.9 | 申请日: | 2020-12-02 |
公开(公告)号: | CN112323044A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 许若言;左雪芹;李珊珊 | 申请(专利权)人: | 江苏迈纳德微纳技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/56 |
代理公司: | 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 | 代理人: | 张迎召 |
地址: | 214000 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及制备二维材料的原子层沉积系统技术领域,提供了一种用于制备二维材料的原子层沉积系统,包括工作台,其特征在于:所述工作台上设置有反应腔;送样系统;前驱体源输送系统,用于输送前驱体气源;反应源输送系统,用于输送反应性气源;真空系统,为气体流通提供动力支持。本发明克服了现有技术的不足,设计合理,结构紧凑,解决了现有的ALD装置沉积系统无法满足高温沉积,同时步骤复杂的问题,本发明通过简单的结构组合,操作步骤少,同时结构布局更加合理紧凑,方便在高温下发生沉积,具有很强的实用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 二维 材料 原子 沉积 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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