[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板有效
| 申请号： | 202011286002.3 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112397573B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 许喆 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/10 | 分类号： | H01L29/10;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括基板；有源层，所述有源层包括层叠设置的第一有源层和第二有源层；源极和漏极，所述源极和所述漏极设置在所述第一有源层两个相对的边缘区域上方；其中，所述第二有源层与所述源极和所述漏极间隔设置且位于所述源极和所述漏极之间；所述第二有源层的含氧量大于所述第一有源层的含氧量。本申请通过在第一有源层上制备第二有源层，所述第二有源层的含氧量大于所述第一有源层的含氧量，从而防止阵列基板的栅极绝缘层在沉积过程中等离子体与第一有源层直接接触而造成损伤，提高了器件的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司，未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011286002.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
