[发明专利]对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 202011264887.7 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112795868B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 中须祥浩;青木泰一郎;铃木健太郎;冈部俊介 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/34;C23C16/04;C23C16/52;H10K71/10 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓宗庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。本发明的课题是即使标记拍摄构件的光轴相对于与掩模平行的面倾斜，也能够进行高精度的对准。一种对准装置，其使保持基板的基板工作台与保持掩模的掩模工作台相对地移动而进行所述基板与所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：标记拍摄构件，其拍摄形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记；控制构件，其基于通过所述标记拍摄构件得到的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，决定使所述基板工作台和所述掩模工作台相对移动的移动量。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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