[发明专利]存储器阵列和用于形成包括存储器单元串的存储器阵列的方法在审

专利信息
申请号: 202011207488.7 申请日: 2020-11-03
公开(公告)号: CN112786611A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: J·D·霍普金斯;徐丽芳 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11582;H01L27/11524;H01L27/11556
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请案涉及存储器阵列和用于形成包括存储器单元串的存储器阵列的方法。本发明涉及一种包括存储器单元的串的存储器阵列,其包括垂直堆叠,所述堆叠包括交替的绝缘层面和导电层面。存储器单元的沟道材料串在所述堆叠中。沟道材料串从所述层面的最上部层面的材料向上突出。第一绝缘体材料直接抵靠所述向上突出的沟道材料串的沟道材料的侧在最上部层面的所述材料上方。所述第一绝缘体材料包括(a)和(b)中的至少一者,其中(a):硅、氮、及碳、氧、硼和磷中的一或多者,且(b):碳化硅。第二绝缘体材料在所述第一绝缘体材料上方。所述第一和第二绝缘体材料包括彼此不同的组合物。所述第二绝缘体材料中的导电通孔个别地直接电耦合到所述沟道材料串的个别者。本发明揭示包含方法的其它实施例。
搜索关键词: 存储器 阵列 用于 形成 包括 单元 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011207488.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top