[发明专利]图形显影情况的检测方法有效
| 申请号： | 202011189007.4 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112015046B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 魏来;罗招龙;刘秀梅;王康;赵广 | 申请（专利权）人： | 南京晶驱集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/84;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 210046 江苏省南京市栖霞区迈*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图形显影情况的检测方法，包括：在测试光罩上放置测试图形组，测试图形包括主图形以及辅助图形；利用测试光罩进行光刻胶的曝光及显影；筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形分别对应的图形化的光刻胶，并得到筛选出的所述图形化的光刻胶上端的实际CD值以及模拟CD值；根据所述模拟CD值与实际CD值的差值调整OPC模型参数，重新输出OPC模型；将重新输出的OPC模型添加到检测工具中，并采用所述检测工具对检测图形内的辅助图形的显影情况进行检测。上述方法能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 显影 情况 检测 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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