[发明专利]半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202011154921.5 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112331546A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 李兴存 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体工艺设备，包括激发线圈、工艺腔室和射频源组件，射频源组件与激发线圈电连接，用于向激发线圈提供射频功率，激发线圈环绕工艺腔室设置，该半导体工艺设备还包括调节组件，该调节组件的第一端与激发线圈连接射频源组件的一端电连接，该调节组件的第二端接地，该调节组件用于调节射频源组件的负载阻抗。在本发明提供的半导体工艺设备中，激发线圈与调节组件并联设置，该调节组件可以灵活、高效地改变感性耦合并联支路与容性耦合并联支路之间的功率分配关系以及激发线圈输入端的输入电压，实现对等离子体密度和成分的精确控制。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
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