[发明专利]一种光刻图形的仿真方法及仿真系统有效
| 申请号： | 202011135351.5 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112162469B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 王康;罗招龙;赵广;魏来 | 申请（专利权）人： | 南京晶驱集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 林凡燕 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市栖霞区迈*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻图形的仿真方法及仿真系统，包括：预设一基板厚度参数，光阻层厚度参数及掩膜版；根据所述基板厚度参数，所述光阻层厚度参数及所述掩膜版，模拟入射光照射在光阻层上，所述入射光经过所述基板反射后形成反射光，所述反射光和所述入射光形成驻波；调整预设参数，以调整所述驻波的波峰和波谷的位置；模拟显影处理，以获得所述光刻图形；判断所述驻波的波峰是否位于所述光刻图形的底部和/或判断所述基板的反射率是否小于阈值；若是，则将调整后的所述预设参数用于实验中；若否，则再次调整所述预设参数。本发明提出的光刻图形的仿真方法可以模拟光刻图形的制造过程，解决光刻图形不稳定的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 图形 仿真 方法 系统 | ||
【主权项】：
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