[发明专利]一种金属硬掩膜的制作方法和晶圆

摘要

本发明公开了一种金属硬掩膜的制作方法和晶圆，方法包括以下步骤：在晶圆衬底表面制作有机物隔离层；在有机物隔离层上沉积金属硬掩膜层；所述金属硬掩膜层用于实现将器件区图形转移至晶圆衬底。本发明在晶圆与金属硬掩膜之间使用有机物做隔离层，具有以下优点：①采用该种方式隔离层生成工艺难度小，易实现。②可使用有机溶剂去除隔离层，不会对晶圆表面及其金属结构造成损伤。从而可以解决现有技术金属硬掩膜层去除不干净易造成器件失效的问题，即如果金属硬掩膜层去除不干净，会造成短路；同时也可以解决现有技术的金属硬掩膜层在一定条件下，存在作为杂质，为衬底掺杂的风险，不利于后续的工艺整合。