[发明专利]加热装置及具有其的MOCVD设备

摘要

本发明提供一种加热装置及具有其的MOCVD设备，加热装置适用于MOCVD设备，其外轮廓大致呈圆形，并沿其周向分为偶数个扇形区；每个扇形区内分为依次交替排布的多个加热区和多个空置区，所述加热装置内设有加热元件，所述加热元件至少覆盖部分所述加热区；于相邻的两个扇形区内，一扇形区内的加热区与另一扇形区内的空置区在分布位置上呈镜像对称关系。分别位于相邻两个扇形区内的加热元件在分部位置上呈互补的关系，从而能使加热元件在加热时产生一个互补的温场。由于基片承载盘在工作时，通常处于高速旋转的状态，能够在不同温场中循环受热，从而使其整体温度更加均匀，并最终使其上的基片受热更加均匀。