[发明专利]阵列基板、显示装置及阵列基板制作方法有效
| 申请号： | 202010925764.7 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN114137769B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 吴博;邓银;韦东梅;罗皓 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 张小勇;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板制作方法，涉及显示技术领域。其中，阵列基板包括：栅极层、第一绝缘层、沟道层、源漏层、第二绝缘层和公共电极层；所述栅极层包括多条栅线和多个栅极，所述沟道层包括多个沟道和多个像素电极，所述源漏层包括多个源极、多个漏极、多条数据线和多条公共电极信号线；所述公共电极信号线与所述公共电极层过孔连接；对应的栅极、沟道、源极和漏极用于形成薄膜晶体管。本申请技术方案可以阵列基板的制作工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 显示装置 制作方法 | ||
【主权项】：
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