[发明专利]一种利用光掩模制备双稳态液晶书写板薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202010891051.3 | 申请日： | 2020-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN111965909A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 洪希杭;王冬;李芳芳 | 申请（专利权）人： | 南京优写智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/139 | 分类号： | G02F1/139;G02F1/1333;G03F1/80;G02F1/137 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210008 江苏省南京市江北*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明专利提供一种利用光掩模制备双稳态液晶书写板薄膜及其制备方法。该薄膜从上至下依次包括透带有绝缘层的聚对苯甲酸乙二醇酯明导电薄膜层、液晶复合体系薄层、带有绝缘层的聚对苯甲酸乙二醇酯黑色导电薄膜层。所制备的利用光掩模制备双稳态液晶书写板薄膜通过改变光掩模透光部分的图案及间隙大小，实现了调整笔迹粗细，增加了书写的真实感；光掩模的使用能够减少可聚单体混合物用量且保持较高的亮度。此外上层聚对苯二甲酸乙二醇酯透明导电薄膜层的导电层为聚噻吩材料，下层聚对苯二甲酸乙二醇酯黑色导电薄膜层的导电层参杂聚苯胺材料，使利用光掩模制备双稳态液晶书写板薄膜具有稳定性好、清晰度高、书写顺滑等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 光掩模 制备 双稳态 液晶 书写 薄膜 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京优写智能科技有限公司，未经南京优写智能科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010891051.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
