[发明专利]基于量子点反溶剂去除发光层中有机物量子点发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010828202.0 申请日: 2020-08-18
公开(公告)号: CN111952468A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 杨尊先;郭太良;叶雨亮;徐雷;张玉飞;周雄图;陈耿旭;陈恩果;余路成 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 丘鸿超;蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提出一种基于量子点反溶剂去除发光层中有机物量子点发光二极管及其制备方法,包括:衬底以及设置在所述衬底上的:空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和阴极;所述量子点发光层通过量子点与有机物混合旋涂制备。本发明制备方法新颖,制作成本低,制备工艺简单,其通过在量子点层上旋涂量子点反溶剂去除部分有机物,使得量子点与功能层接触良好的同时有效阻挡了电子传输层和空穴传输层的直接接触,减小了漏电流,使得电子和空穴在量子点层实现了有效的复合,抑制了俄歇复合的发生。可使量子点发光二极管的寿命以及性能大大提高。
搜索关键词: 基于 量子 溶剂 去除 发光 有机物 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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