[发明专利]一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其制作方法有效
| 申请号： | 202010801545.8 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN111893432B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 张伟;李慧;孙世成;郭钟旭;吴欣慰;李存智 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其制作方法，涉及显示技术领域，使用该掩膜板形成膜层图案时，可有效减少内阴影的大小，从而提升膜层图案的制作质量，进而提升产品质量。一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口区和围绕所述开口区的本体区；所述本体区包括靠近所述开口区的过孔部，所述过孔部被配置为：在衬底上采用所述掩膜板形成膜层图案的情况下，膜层材料能穿过所述过孔部沉积在所述衬底对应所述开口区的区域内。本发明适用于掩膜板的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制作方法 显示 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010801545.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
