[发明专利]液体金属离子源和聚焦离子束装置在审
| 申请号： | 202010660895.7 | 申请日： | 2020-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN112635276A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 小山喜弘;麻畑达也;清原正宽;杨宗翰 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 褚瑶杨;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种液体金属离子源和聚焦离子束装置，能够长期间稳定地释放离子束。该液体金属离子源(50)具备：贮存室(10)，其对形成液体金属的离子材料(M)进行保持；针状电极(20)，其表面由从贮存室供给的离子材料覆盖；引出电极(22)，其使离子材料的离子从针状电极的前端释放；射束光圈(24)，其配置于引出电极的下游侧，对离子的束径进行限制；以及真空室(30)，其对这些进行收纳并保持为真空，该液体金属离子源(50)的特征在于，进一步具有氧化性气体导入部(40)，氧化性气体导入部与真空室连通而向针状电极的周围导入氧化性气体。 | ||
| 搜索关键词： | 液体 金属 离子源 聚焦 离子束 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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