[发明专利]一种镀膜结构及其制备方法在审
申请号: | 202010634498.2 | 申请日: | 2020-07-02 |
公开(公告)号: | CN111778498A | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 刘彬灿;黄明起;夏建文 | 申请(专利权)人: | 深圳市化讯半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42;C23C18/44;C23C18/54 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种镀膜结构及其制备方法。所述镀膜结构包括依次设置于导电层上的银层、钯层和金层。本发明针对现有的工艺镍钯金是在镍层上通过沉积的方式沉积上一层钯,然后通过置换的方式沉积上一层金,由于镍层的磁性,在高频高速信号传输时会造成损耗和衰减,导致无法满足信号高频高速传输的问题。本发明提供的镀膜结构包括银层、钯层和金层,不具有磁性,不会影响信号高频高速传输,而且能够保护导电层并提供良好的可焊性,导电性、耐腐蚀性和抗摩擦等性。本发明所述银层取代了金(贵金属)成本显著降低,所述银表面的钯层可有效的防止银层的腐蚀,所述金层可以起到润湿和抗腐蚀的作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 结构 及其 制备 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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