[发明专利]沉积设备和沉积方法在审
申请号: | 202010472906.9 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN112011786A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 坪井隆志;川角保志 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/40 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 林振波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及沉积设备和沉积方法。沉积设备包括:基板保持器,用于保持基板;输送机构,用于输送呈水平姿态的基板以将基板插入基板保持器中以及从基板保持器移除基板;旋转机构,用于改变基板的姿态;室,用于容纳旋转后的基板保持器以便将基板设置成竖直姿态并且实施沉积处理;和控制单元,配置成执行第一控制以使得在沉积处理之前将基板插入基板保持器中时使输送机构在第一位置处让基板保持器将基板保持;以及执行第二控制,以使得在沉积处理之后从基板保持器移除基板时使输送机构在比第一位置更靠后的第二位置处从基板保持器接收基板。 | ||
搜索关键词: | 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的