[发明专利]一种薄膜沉积装置

摘要

本申请实施例公开了一种薄膜沉积装置，包括：反应室，所述反应室中设置有用于沿第一方向堆叠容纳多个晶片的装载部件；所述反应室沿所述第一方向包括底层区域、中层区域和高层区域；第一气体供应部，设置在所述底层区域，用于沿所述第一方向将第一反应气体供应至所述反应室的中层区域和高层区域；第二气体供应部，设置在所述底层区域且所述第二气体供应部的顶端高度不高于所述第一气体供应部的顶端高度，用于沿垂直于所述第一方向的第二方向将第一反应气体供应至所述反应室的底层区域；第三气体供应部，用于将第二反应气体供应至所述反应室内。