[发明专利]一种下电极组件，其安装方法及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010453854.0 | 申请日： | 2020-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN113725059A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 赵函一;黄国民;叶如彬;涂乐义 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J9/18 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种下电极组件，其安装方法及所处的等离子体处理装置，通过介电环与基座配合，将介电环与基座之间的缝隙分隔成两个或两个以上间隙，以及在介电环与基座之间设置保护环，并在基座外侧设置保护层，避免了基片和聚焦环上方的等离子体泄漏到基座与边缘环组件之间的间隙内，防止了等离子体腐蚀基座，降低了下电极组件出现电弧放电的可能性，有效的保证了下电极组件的使用安全。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电极 组件 安装 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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