[发明专利]一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法在审

专利信息
申请号: 202010375323.4 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111710590A 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 陈军;马腾;韦奕;曲华松;曾海波 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 代理人: 凤婷
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本发明公开了一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法,在不改变外在条件的前提下,基于激光直写技术来刻蚀钙钛矿量子点薄膜,以提高其偏振度,具体包括以下步骤:首先清洗基片,基片为旋涂钙钛矿量子点薄膜的衬底;然后将清洗后的基片烘干后,放入UV O3清洗机中继续清洗;再将清洗后的基片放在制膜设备上,用制备好的钙钛矿量子点材料制备薄膜,得到钙钛矿量子点薄膜;最后激光直写扫描钙钛矿量子点薄膜。本专利采用激光直写技术对钙钛矿量子点薄膜进行处理,用激光来改变薄膜的组织形貌,制备过程更加简单,制作成本较低,可进行大面积制备,通过偏振测试可证明激光处理后偏振度的提升。
搜索关键词: 一种 提高 钙钛矿 量子 薄膜 偏振 方法
【主权项】:
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