[发明专利]一种Si基GaN毫米波传输线结构及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010361815.8 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111653553A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 张进成;刘俊伟;刘志宏;郝璐;宋昆璐;周弘;赵胜雷;张苇杭;段小玲;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L23/66 分类号: H01L23/66;H01P3/00;H01P11/00
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李园园
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种Si基GaN毫米波传输线的结构及制备方法,该结构包括:Si衬底;AlN成核层,在所述Si衬底之上;III族氮化物过渡层,在所述AlN成核层之上;GaN缓冲层,在所述III族氮化物过渡层之上;金属地层,在该GaN缓冲层之上;介质插入层,在该金属地层之上;CPW,在该介质插入层之上;CPW的地线通过介质插入层中的通孔与金属地层相连。本发明的目的在于针对上述毫米波电路应用中传输线射频损耗较高的问题,提出一种面向毫米波应用的Si基GaN结构上的传输线结构及制备方法,通过在CPW与GaN层之间插入一层金属地,以屏蔽AlN/Si界面处p型导电沟道的影响,从而降低传输线的射频损耗,以满足其在毫米波电路中的应用需求。
搜索关键词: 一种 si gan 毫米波 传输线 结构 制备 方法
【主权项】:
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