[发明专利]一种半浮栅TFT存储器及其制备方法

摘要

本发明属于集成电路存储器技术领域，具体为一种半浮栅TFT存储器及其制备方法。本发明半浮栅TFT存储器包括：L型背栅；背栅底部上的L型阻挡层，其顶部与所述背栅的顶部相持平；在阻挡层底部上的L型浮栅，其顶部与所述阻挡层的顶部相持平；在浮栅底部的隧穿层，其上表面与所述浮栅的顶部相持平；在隧穿层和浮栅的上表面的沟道；在沟道上的源极和漏极；所述浮栅和沟道均为半导体材料，而且具有相反的导电类型，所述浮栅、所述沟道、所述阻挡层以及所述背栅构成栅控二极管。本发明的半浮栅TFT存储器数据写入和擦除全部通过栅控二极管来实现，可以加快数据擦写速度。