[发明专利]一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202010301019.5 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN111490017A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 周殿力;张大勇;李嘉文;于军胜 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L23/00 | 分类号： | H01L23/00;H01L21/56 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 邓芸 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法，涉及防潮材料技术领域，本发明包括下而上设置的基底和防潮薄膜，所述防潮薄膜总厚度不超过10μm，防潮薄膜的原料包括按重量比计的以下成分：混合溶剂60～40％、防潮剂20～30％和保护剂20～30％，所述混合溶剂为乙二醇、高分子聚电解质型731分散剂、硅烷偶联剂YGO‑1204和水性乳液，本发明用于光电子器件的防潮防腐，具有保护剂的多孔结构能避免防潮剂直接暴露于紫外辐照等外界极端环境而导致防潮剂失去活性，同时利用防潮剂在烘干以后会在保护剂的多孔结构内外表面同时附着的特性，增加了有效防潮的比表面积，极大提升了防潮效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光电子 器件 防潮 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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