[发明专利]抗蚀剂底层组合物和用该组合物形成图案的方法在审
| 申请号： | 202010267952.5 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN111856878A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | J·凯茨;K·杨;张可人;J·F·卡梅伦;崔莉;E·阿卡德;山田晋太郎;P·J·拉博姆 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09;G03F1/76 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;钱文宇 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 抗蚀剂底层组合物，其包含聚亚芳基醚、不同于所述聚亚芳基醚的添加剂聚合物和溶剂，其中所述添加剂聚合物包括具有选自羟基、巯基和/或氨基的至少一个受保护或游离官能团的芳族或杂芳族基团。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 底层 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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