[发明专利]一种基于表面CVD法生长石墨烯的新型激光陀螺阴极有效
| 申请号： | 202010247828.2 | 申请日： | 2020-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN111517308B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 王飞;卢广锋;王凡 | 申请（专利权）人： | 湖南二零八先进科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/186 | 分类号： | C01B32/186;C03C17/00;C03C17/22;C03C17/36;G01C19/66 |
| 代理公司： | 北京山允知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11741 | 代理人： | 胡冰 |
| 地址： | 410000 湖南省长沙市开福区芙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于表面CVD法生长石墨烯的新型激光陀螺阴极，包括以下步骤：1.阴极表面抛光；2.清洗；3.电极表面CVD法生长石墨烯。本发明与现有技术相比的优点在于：解决了激光陀螺阴极膨胀系数与激光陀螺腔体严重失配的问题，同时提升了阴极的电子发射能力，减小了阴极发生溅射的可能性，延长了激光陀螺使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 表面 cvd 生长 石墨 新型 激光 陀螺 阴极 | ||
【主权项】：
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