[发明专利]一种基于电子背散射衍射花样的晶面间距测量方法有效

专利信息
申请号: 202010171439.6 申请日: 2020-03-12
公开(公告)号: CN113390908B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 彭帆;曾毅;张积梅;林初城;刘紫微;姜彩芬 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: G01N23/203 分类号: G01N23/203
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种基于电子背散射衍射花样的晶面间距测量方法,包括采集晶体样品的电子背散射衍射花样,定义花样平面为基准面并设定原点,记录花样中心的坐标以及样品到屏幕之间的距离并求出位于花样中心正上方的入射点的坐标,记录加速电压并计算电子波长;对菊池带进行编号,提取菊池带的靠近花样中心位置的第一边界及第二边界;从花样中心向第一边界和第二边界分别作垂线交于第一交点和第二交点,记录第一交点的坐标和第二交点的坐标;根据入射点的坐标、第一交点的坐标和第二交点的坐标,求出菊池带的对应晶面的衍射角;根据衍射角、电子波长通过布拉格公式计算出菊池带的对应晶面的晶面间距。
搜索关键词: 一种 基于 电子 散射 衍射 花样 间距 测量方法
【主权项】:
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