[发明专利]一种氢氟酸循环利用洗石墨舟的方法有效
| 申请号： | 202010133589.8 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111354637B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 姚骞;张忠文;谢毅 | 申请（专利权）人： | 通威太阳能(眉山)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/311 | 分类号： | H01L21/311;H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 彭星 |
| 地址： | 620000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及太阳能电池生产制造技术领域，具体是一种氢氟酸循环利用洗石墨舟的方法，用于解决现有技术中在电池片的清洗过程中对氢氟酸浪费较大的问题。本发明包括以下步骤：步骤1：将使用过的旧氢氟酸收集并储存在废酸储存池中；步骤2：将废酸储存池中的旧氢氟酸抽入自配存放池中；步骤3：测量自配存放池中的旧氢氟酸浓度；步骤4：根据测量自配存放池中旧氢氟酸的浓度，向自配存放池中加入新氢氟酸或者清水，直到自配存放池中旧氢氟酸的浓度达到要求为止；步骤5：将自配存放池中的旧氢氟酸加入石墨舟清洗槽中，并将带返工片的花篮放入石墨舟清洗槽中浸泡。本发明中通过上述方法可以节省大量的氢氟酸。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氢氟酸 循环 利用 石墨 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
