[发明专利]工艺检测方法及系统、设备、存储介质有效

专利信息
申请号: 202010129485.X 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN113408236B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 孟阳;王伟斌;刘庆炜;吴宗晔 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06T7/00;G06T7/13
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静
地址: 300380 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种工艺检测方法及系统、设备、存储介质,工艺检测方法包括:提供基底,基底上形成有底层功能结构、以及位于底层功能结构上方的待检测功能层,待检测功能层中形成有开口,开口露出底层功能结构;提供底层功能结构的版图图形作为第一版图图形,提供开口的版图图形作为第二版图图形;获取开口的轮廓图形;对轮廓图形与第二版图图形进行第一叠加处理,获得第一叠加图形;根据第一叠加图形比较轮廓图形与第一版图图形的相对位置关系,并根据相对位置关系检测薄弱点。所述底层功能结构所对应的第一版图图形的边界清楚且完整,因此,通过比较轮廓图形与第一版图图形的相对位置关系的方式,使得判断结果更精准,相应提高了工艺检测的精度。
搜索关键词: 工艺 检测 方法 系统 设备 存储 介质
【主权项】:
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