[发明专利]图像传感器结构有效

专利信息
申请号: 202010107639.5 申请日: 2020-02-21
公开(公告)号: CN111293132B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 范春晖 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种图像传感器结构,包括:衬底,设于所述衬底上的浅槽隔离区,依次位于所述浅槽隔离区之间的光电二极管、传输晶体管和浮置扩散区,以及设于靠近所述光电二极管一侧的所述浅槽隔离区表面上的导电层;其中,在粒子照射下,所述导电层中产生负电荷,用于与所述浅槽隔离区的填充材料中产生的正电荷相互抵消,从而可避免靠近浅槽隔离区的硅衬底表面产生暗电流。
搜索关键词: 图像传感器 结构
【主权项】:
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