[发明专利]一种制备形貌可控的材料选择性刻蚀方法有效
| 申请号： | 202010104086.8 | 申请日： | 2020-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111235575B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 董玉成;林叶茂 | 申请（专利权）人： | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;B22F9/24;B22F1/07;H01M4/38;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津市尚文知识产权代理有限公司 12222 | 代理人： | 郭平平 |
| 地址： | 526000 广东省肇庆*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制备形貌可控的材料的选择性蚀刻方法，提供了一种简单的选择性蚀刻方法。所述方法首先合成Co‑Co‑PBA的前驱体，然后再通过选择性刻蚀的方法来制备形貌不一的结构。具体地，通过调节蚀刻液的浓度和蚀刻时间，改变了材料形貌。这些材料可以运用到电池和电催化上面，可以为电池提供了更多的电子通道和活性位点，有利于电池电化学反应的进行，同时对电催化也应该会有一定的帮助。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 形貌 可控 材料 选择性 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
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