[发明专利]一种电荷俘获型存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010101304.2 申请日: 2020-02-19
公开(公告)号: CN111293122A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 沈宇鑫;门阔;魏峰 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司
主分类号: H01L27/11563 分类号: H01L27/11563;H01L27/11565;H01L27/11568
代理公司: 中国有色金属工业专利中心 11028 代理人: 李子健
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种电荷俘获型存储器,包括硅衬底、隧穿层、电荷俘获层、阻挡层、电极以及形成于衬底上的源极和漏极。存储器的制备方法包括以下步骤:在硅衬底上形成源极和漏极;于载流子沟道顶部生长隧穿层;在隧穿层顶部沉积电荷俘获层;在电荷俘获层上沉积Al2O3作为阻挡层;在阻挡层顶部覆盖电极。本发明通过引入原子掺杂形成多元氧化物电荷存储层,获得了大的存储窗口,同时,器件其他方面的性能没有被牺牲,利于广泛应用。
搜索关键词: 一种 电荷 俘获 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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