[发明专利]具有栅极接触部的自对准栅极端帽(SAGE)架构在审

专利信息
申请号: 202010081594.9 申请日: 2020-02-06
公开(公告)号: CN111668215A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: S.苏布拉马尼恩;W.M.哈费茨 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/78
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐予红;姜冰
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 描述了具有栅极接触部的自对准栅极端帽(SAGE)架构以及制作具有栅极接触部的SAGE架构的方法。在示例中,一种集成电路结构,包括半导体鳍之上的栅极结构。栅极端帽隔离结构与所述栅极结构横向相邻并且相接触。沟槽接触部结构在所述半导体鳍之上,其中所述栅极端帽隔离结构与所述沟槽接触部结构横向相邻并且相接触。本地栅极到接触部互连将所述栅极结构电连接到所述沟槽接触部结构。
搜索关键词: 具有 栅极 接触 对准 sage 架构
【主权项】:
暂无信息
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