[发明专利]由溅射的氮化硅或氮氧化硅制造的硬质高折射率光学膜在审
| 申请号： | 201980089084.1 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN113302523A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | S·D·哈特;金畅奎;K·W·科齐三世;C·A·考斯克威廉姆斯;林琳;文东建;吴正根;C·A·保尔森;J·J·普莱斯;A·M·马约利 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张璐;乐洪咏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种光学膜结构，其包括：光学膜，所述光学膜包括约50nm至约3000nm的物理厚度，以及含硅的氮化物或者含硅的氮氧化物。所述光学膜展现出大于18GPa的最大硬度，这通过在约100nm至约500nm的压痕深度范围内对硬度堆叠体进行布氏硬度计压头硬度测试来测量，所述硬度堆叠体包括物理厚度为约2微米的测试光学膜，其被设置在无机氧化物测试基材上，测试光学膜具有与光学膜相同的组成。进一步地，所述光学膜展现出在400nm的波长下的光学消光系数(k)小于1x10 |
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| 搜索关键词： | 溅射 氮化 氧化 制造 硬质 折射率 光学 | ||
【主权项】：
暂无信息
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