[发明专利]由溅射的氮化硅或氮氧化硅制造的硬质高折射率光学膜在审

申请号：	201980089084.1	申请日：	2019-10-29
公开（公告）号：	CN113302523A	公开（公告）日：	2021-08-24
发明（设计）人：	S·D·哈特;金畅奎;K·W·科齐三世;C·A·考斯克威廉姆斯;林琳;文东建;吴正根;C·A·保尔森;J·J·普莱斯;A·M·马约利	申请（专利权）人：	康宁股份有限公司
主分类号：	G02B1/113	分类号：	G02B1/113
代理公司：	上海专利商标事务所有限公司 31100	代理人：	张璐;乐洪咏
地址：	美国***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	溅射氮化氧化制造硬质折射率光学
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【权利要求书】：

1.一种光学膜结构，其包括：

光学膜，所述光学膜包括约50nm至约3000nm的物理厚度，以及含硅的氮化物或者含硅的氮氧化物，

其中，所述光学膜展现出大于18GPa的最大硬度，这通过在约100nm至约500nm的压痕深度范围内对硬度测试堆叠体进行布氏硬度计压头硬度测试测得，所述硬度测试堆叠体包括物理厚度为约2微米的测试光学膜，其被设置在无机氧化物测试基材上，所述测试光学膜具有与光学膜相同的组成，并且

进一步地，其中，所述光学膜展现出在400nm的波长下的光学消光系数(k)小于1x 10^-2，以及在550nm的波长下的折射率(n)大于1.8。

2.根据权利要求1所述的膜结构，其中，所述光学膜还包括约-50MPa(压缩)至约-2500MPa(压缩)的残余应力。

3.根据权利要求1所述的膜结构，其中，所述光学膜还包括约-100MPa(压缩)至约-1500MPa(压缩)的残余应力。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的膜结构，其中，光学膜的物理厚度为约200nm至约3000nm，并且进一步地，其中，当沉积到玻璃基材上时，光学膜展现出表面粗糙度(R_a)小于3.0nm。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的膜结构，其中，光学膜的物理厚度为约200nm至约3000nm，并且进一步地，其中，当沉积到玻璃基材上时，光学膜展现出表面粗糙度(R_a)小于1.5nm。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的膜结构，其中，所述光学膜展现出大于20GPa的最大硬度，这通过在约100nm至约500nm的压痕深度范围内对硬度测试堆叠体进行布氏硬度计压头硬度测试来测量，所述硬度测试堆叠体包括物理厚度为约2微米的测试光学膜，其被设置在无机氧化物测试基材上，所述测试光学膜具有与光学膜相同的组成，并且进一步地，其中，所述光学膜展现出在400nm的波长下的光学消光系数(k)小于5x 10^-3。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的膜结构，其中，所述光学膜展现出大于22GPa的最大硬度，这通过在约100nm至约500nm的压痕深度范围内对硬度测试堆叠体进行布氏硬度计压头硬度测试来测量，所述硬度测试堆叠体包括物理厚度为约2微米的测试光学膜，其被设置在无机氧化物测试基材上，所述测试光学膜具有与光学膜相同的组成，并且进一步地，其中，所述光学膜展现出在400nm的波长下的光学消光系数(k)小于1x 10^-3。

8.一种光学制品，其包括：

无机氧化物基材，其包括相对的主表面；和

设置在无机氧化物基材的第一主表面上的光学膜结构，所述光学膜结构包括光学膜，所述光学膜包括约50nm至约3000nm的物理厚度，以及含硅的氮化物或含硅的氮氧化物，

进一步地，其中，所述光学膜展现出在400nm的波长下的光学消光系数(k)小于1x 10^-2，以及在550nm的波长下的折射率(n)大于1.8。

9.根据权利要求8所述的制品，其中，所述光学膜还包括约-100MPa(压缩)至约-1500MPa(压缩)的残余应力。

10.根据权利要求8或权利要求9所述的制品，其中，光学膜的物理厚度为约200nm至约3000nm，并且进一步地，其中，当沉积到玻璃基材上时，光学膜展现出表面粗糙度(R_a)小于1.5nm。

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