[发明专利]真空处理装置有效
| 申请号： | 201980086821.2 | 申请日： | 2019-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN113227445B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 藤井佳词 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/00;H01L21/203;H01L21/285 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红;秦岩 |
| 地址： | 日本神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种不会损害可冷却真空室内设置的防附着板这一功能，并可实施防附着板的烘烤处理的真空处理装置。具有真空室(1)并对该真空室中安装的被处理基板(Sw)实施规定的真空处理的本发明的真空处理装置(SM)，在真空室内设置防附着板(82)，真空处理装置(SM)还具有：金属材质的块体(9)，其竖立设置在真空室的下壁内表面(13)上并与防附着板的一部分留出间隙地相对设置；冷却装置(11)，其冷却块体；加热装置(10)，其配置在防附着板的一部分和块体之间并可通过热辐射加热防附着板，彼此相对设置的块体和防附着板的表面部分分别由通过对这些块体和防附着板的母材金属分别实施表面处理而增加了辐射率的高辐射率层(93，84)构成。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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