[发明专利]用于PVD腔室的具有高沉积环的处理配件有效
| 申请号： | 201980083200.9 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN113166927B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 大卫·冈瑟;蔡振雄;克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文提供了处理配件的实施方式。在一些实施方式中，一种处理配件包括：沉积环，沉积环被配置为设置在基板支撑件上，沉积环包括：环形带，环形带被配置为置放在基板支撑件的下凸缘上，环形带具有上表面和下表面，下表面在径向内部和径向外部之间包括台阶；内唇部，内唇部从环形带的上表面向上延伸并与环形带的内表面相邻，其中环形带的上表面与内唇部的上表面的水平部分之间的深度在约6.0mm至约12.0mm之间；通道，通道设置在环形带的径向外侧和下方；及外唇部，外唇部向上延伸并设置在通道的径向外侧。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pvd 具有 沉积 处理 配件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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