[发明专利]用于测量CVD反应器中的基座的表面温度的装置

摘要

本发明涉及一种在CVD反应器中使用的盖板(4、5)，其中，所述盖板具有在圆弧线上延伸的周向边缘，或者其中，多个相同地设计的盖板(4、5)能够以圆形布置，从而所述盖板的沿着圆弧延伸的外边缘相互补充成完整的圆。用于衬底(10)或者承载衬底(10)的衬底固持装置的安置位置位于盖板的面内。按照本发明，盖板具有朝向其两个相互背离地指向的宽侧敞开的开口(15)，通过所述开口能够看到基座(2)的上侧(3)，从而通过开口(15)能够进行光学的温度测量。