[发明专利]组合物和蚀刻方法有效
| 申请号： | 201980033210.1 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN112135927B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 正元祐次;阿部徹司;千叶广之;野口裕太 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H01L21/308;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供一种组合物和蚀刻方法，其可抑制残膜的发生且形成直线性高、尺寸精度优异的微细的图案，对铜系层等金属层的蚀刻有用。一种组合物，其为含有如下成分的水溶液：(A)选自铜离子和铁离子中的至少1种成分0.1～25质量％；(B)氯化物离子0.1～30质量％；(C)下述通式(1)(R |
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| 搜索关键词： | 组合 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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