[实用新型]一种氮化钽薄膜电阻器制造设备有效

专利信息
申请号: 201922404399.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN210805387U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 林鹏;赵培 申请(专利权)人: 无锡奥夫特光学技术有限公司
主分类号: H01C17/075 分类号: H01C17/075;H01C17/08;H01C17/12;C23C14/35;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/06;C23C14/14;C23C14/58
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种氮化钽薄膜电阻器制造设备,属于电阻器制造技术领域。所述氮化钽薄膜电阻器制造设备包括真空室、旋转装置、抽气泵组、供气装置、磁控装置、热阻蒸发装置、AR离子清洗装置和电子束蒸发装置;所述抽气泵组和所述供气装置均穿过所述真空室,并与其内部连通,分别用于抽出所述真空室内的空气和充入稀有气体;所述抽气泵组保证所述真空室处于真空状态,使AR离子旋转清洗、氮化钽薄膜电阻层镀膜、钛金属镀膜、贵金属镀膜和蚀刻图形的制备工艺均在真空条件下完成,与传统自然环境下的常规制备工艺相比,生产出的氮化钽薄膜电阻器合格率更高,使用寿命更长,且生产效率也大大提高。
搜索关键词: 一种 氮化 薄膜 电阻器 制造 设备
【主权项】:
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